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Vision 310等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統PX 7045
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SENTECH 集群系統等離子刻蝕集群系統PX 1950
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1607
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TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統PX 2463
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 2004
FPTOR-RIE600W反應離子刻蝕機系統PX 2777
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 1626
離子污染測定儀PX 2033
VP-RS15等離子刻蝕機PX 3642
NMC 508CG多晶硅刻蝕機PX 0
NMC 508M金屬刻蝕機PX 0
NMC 508RIE介質刻蝕機PX 0
Vision 410等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統PX 7045
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 5005
PLUTO-E100科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統PX 5005
Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 2944
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 0
EIS-1500ELIONIX 離子束刻蝕機PX 1532
SENTECH SI 591等離子刻蝕機PX 1532
SENTECH 集群系統SENTECH等離子刻蝕 集群系統PX 1532
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統PX 1532
PICO德國Diener等離子清洗機PX 2837
FEMTO德國Diener等離子清洗機PX 2837
Atto德國Diener等離子清洗機PX 2837
ZEPTO德國Diener等離子清洗機PX 2837
cmvacICP等離子刻蝕機 干法刻蝕設備PX 0
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統PX 1950
SENTECH SI 591等離子刻蝕系統RIEPX 1950
SENTECH Etchlab 200 RIERIE等離子蝕刻系統PX 1950
SENTECH SI 500 C低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統PX 1950
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統PX 1950
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 1950
EIS-1500離子束刻蝕機PX 1950
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