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派瑞林真空鍍膜機 Parylene鍍膜系統PX 2464
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2970
CY-OTF-1200X-III-PE300-RR卷對卷PECVD石墨烯制備設備PX 4426
BTF-1200C-SL-A等離子增加化學氣相沉積CVD系統PX 2471
CC-200日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備PX 4207
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2840
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統PX 2777
LPCVD-2低壓化學氣相沉積系統LPCVDPX 1532
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3873
PECVDPX 2971
TRP450沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 3492
Batch Type部件鍍膜設備PX 1950
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統PX 2574
CVD化學氣相沉積裝置PX 2894
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統PX 2812
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 2722
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統-試驗用冷水機PX 6064
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 2430
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 3511
等離子體化學氣相沉積設備PX 2033
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 3162
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統PX 3001
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統PX 3036
Cluster system等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統PX 2464
Series 2000旋轉鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設備PX 2464
Series 3000 CR進口parylene派瑞林鍍膜設備PX 2464
Series 3000 LV 800/1000派瑞林parylene真空鍍膜設備PX 2464
Series 3000 LV 600/700派瑞林parylene鍍膜設備PX 2464
Serie 3000 StandardParylene派瑞林真空鍍膜機PX 2464
Labcoater Series 300Parylene派瑞林鍍膜機PX 2464
Labcoater Series 100Parylene派瑞林鍍膜設備PX 2464
Parylene派瑞林真空鍍膜設備PX 2464
微波等離子化學氣相沉積系統PX 2464
金屬有機化學氣相沉積系統MOVPE設備PX 2464
NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2464
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2464
NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2464
NPE-4000(M)PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2464
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2464
NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2464
薄膜生長設備
工藝測量和檢測設備
集成電路測試與分選設備
光刻及涂膠顯影設備
熱工藝設備/熱處理設備
硅片制備/晶體生長設備
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其它半導體行業儀器設備
派瑞林真空鍍膜機 Parylene鍍膜系統
卷對卷PECVD石墨烯制備設備
派瑞林真空氣相沉積
1200℃三溫區高真空CVD氣相沉積系統
1500℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD氣相沉積
全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統
1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統
1200℃三溫區旋轉CVD氣相沉積系統
等離子增加化學氣相沉積CVD系統
日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備
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