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CY-DCCVD熱陰極直流等離子體化學氣相沉積系統PX 4661
CY-PECVD60R-1200-QPECVD?旋轉等離子加強CVD系統PX 4661
晶圓級PECVD氣相沉積設備PX 4661
CY-OTF-1200X-I-PEC4R-PECVD?等離子增強CVD氣相沉積設備PX 4661
CY-PECVD-500T-SSPECVD化學氣相沉積系統PX 4661
CY-PECVD-500T-SS半導體PECVD設備PX 4661
CY-PE-HPCVD-50R-1100-QPE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積PX 4661
CY-PECVD100-1200-Q雙溫區CVD化學氣相沉積系統PX 4661
CY-PECVD50-1200-Q三溫區PECVD氣相沉積石墨烯制備PX 4661
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 4661
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統PX 4661
CY-PECVD-240T-SS半導體CVD設備PX 4661
CY-CVD1200-60-455-3TH-Q全自動CVD滑軌爐PX 4661
CY-CVD1200-60-455-3TH-Q1200℃單溫區三通道混氣CVD系統PX 4661
CY-CVD1700-100-400-2TH-Q三溫區1600 CVD系統PX 4661
CY-CVD1700-100-400-2TH-Q1700℃兩路浮子供氣氫氣還原CVD系統PX 4661
CY-CVD1200-501200℃三溫區3路質量供氣高真空CVD系統PX 4661
CY-CVD1500-60-300-3TH-Q1500℃單溫區3路質量流量計高真空CVD系統PX 4661
CY-O1200-60IIC-3ZV10高真空CVD氣相沉積系統PX 4661
1600三溫區CVD氣相沉積系統PX 4661
PECVD-500A-D智能型PECVD系統(含壓力控制系統)PX 2643
BTF-1200C-R-S-PECVD化學氣相沉積PX 2643
BTF-1200C-S-SL-CVD非氣態源化學氣相沉積系統PX 2643
BTF-1200C-II-AS-500A智能型雙溫區等離子化學氣相沉積系統PX 2643
BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系統管式爐PX 2643
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
GS-30-700(廣樹)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3828
PVD500沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 4290
DZS500沈陽科儀高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統PX 4290
PLD450沈陽科儀高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統PX 4290
EB700沈陽科儀高真空電子東蒸發薄膜沉積系統PX 4290
Automotive Lamp Reflector薄膜沉積鍍膜系統PX 2000
TurboDisc EPIK 868金屬有機化學氣相沉積MOCVDPX 2000
Propel 300mm GaN金屬化學氣相沉積MOCVDPX 2000
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統PX 2000
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統PECVDPX 2000
PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
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派瑞林真空鍍膜機 Parylene鍍膜系統
卷對卷PECVD石墨烯制備設備
派瑞林真空氣相沉積
1200℃三溫區高真空CVD氣相沉積系統
1500℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD氣相沉積
全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統
1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統
1200℃三溫區旋轉CVD氣相沉積系統
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