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全自動熱蒸發系統
NTE-3500（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有...

型號： NTE-3500（... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 12:05:23 對比

NTE-3500全自動熱蒸鍍進口全自動熱蒸鍍系統全自動熱蒸發臺全自動熱蒸發鍍膜設備
NTE-3500（M）熱蒸發系統
NTE-3500（M）熱蒸發系統：NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 12:03:04 對比

NTE-3500熱蒸鍍進口熱蒸鍍系統熱蒸發臺熱蒸發鍍膜設備
NTE-3000熱蒸發系統
NTE-3000熱蒸發系統：NTE-3000是PC控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 12:00:34 對比

NTE-3000熱蒸鍍進口熱蒸鍍系統熱蒸發臺熱蒸發鍍膜設備
全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統
NPE-4000（ICPA）全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達6" 基片...

型號： NPE-4000（... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:36:40 對比

進口全自動ICPECVDICP PECVD
ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片...

型號： NPE-4000（... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:34:15 對比

進口ICPECVDICPPECVD
全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統
NPE-4000（A）全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋...

型號： NPE-4000（... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:32:11 對比

進口PECVD進口全自動PECVD等離子化學氣相沉
NPE-4000（M）PECVD等離子體化學氣相沉積系統
NPE-4000（M）PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:30:00 對比

進口PECVD進口等離子體PECVD等離子增強化學氣相沉
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或...

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進口PECVD進口等離子體PECVD等離子增強化學氣相沉
NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統
NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或...

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進口PECVD臺式PECVD進口等離子體PECVD等離子增強化學氣相沉
NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統
NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配...

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磁控濺射鍍膜系統進口全自動磁控濺射臺全自動磁控濺射鍍膜儀全自動磁控濺射鍍膜機
磁控濺射系統
NSC-4000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達到到8“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達1...

型號： NSC-4000（... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:21:52 對比

Sputter System進口磁控濺射系統磁控濺射臺進口真空鍍膜儀
NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統
NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵...

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NSC-3500磁控濺射系統全自動磁控濺射系統進口全自動濺射臺全自動濺射鍍膜機
NSC-3500（M）磁控濺射系統
NSC-3500（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達8“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-...

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Sputter System進口磁控濺射系統磁控濺射臺進口真空鍍膜儀
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統：臺式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:15:18 對比

NSC-3000磁控濺射系統全自動磁控濺射系統進口全自動濺射臺全自動濺射鍍膜機
NSC-3000（M）磁控濺射系統
NSC-3000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:13:43 對比

Sputter System進口磁控濺射系統磁控濺射臺進口真空鍍膜儀
NSC-1000磁控濺射系統
NSC-1000磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 T...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 11:11:27 對比

Sputter System進口磁控濺射系統進口磁控濺射臺真空濺射臺價格
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機：*進的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/9/17 10:10:20 對比

濺射磁控濺射鍍膜機價格鍍膜機

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