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緊湊型臺式光刻系統重新定義無掩模光刻技術LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺式光刻系統利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實現無掩模圖案化。設計簡潔...
SUME BW510是用于研發或小批量生產的半自動晶圓鍵合設備,具備良好的壓力與溫度均勻性較為特的結構設計保證鍵合的壓盤相對水平,優良的真空系統以及腔體設計,方...
全自動步進重復式激光干涉光刻機VIL 1000納米光刻系統具有全自動光路重構、動態鎖相、高精度步進重復曝光等強大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后,無需任何手...
晶圓翹曲應力測量儀具備三維翹曲(平整度)及薄膜應力的檢測功能,適用于半導體晶圓生產、半導體制程工藝開發、玻璃及陶瓷晶圓生產
高級研究型高光譜顯微系統結合了高光譜技術和顯微鏡技術,能夠在不同波長范圍內獲取高分辨率的光譜信息與生物樣品形態圖,實現在一張圖中同時獲取光譜和圖像信息。該系統還...
SPRm200 表面等離子共振顯微鏡工作原理基于表面等離子共振(SPR)技術。是世界上先將表面等離子體共振技術和光學顯微鏡巧妙結合為一體的生物傳感檢測儀。可以同...
Nano Indenter® G200原位納米力學測試系統是一種準確,靈活,使用方便的納米級機械測試儀器。 G200 測量楊氏模量和硬度,包括從納米到...
生物型原子力顯微鏡Park NX12-Bio是一個強大的三合一生物研究工具,將掃描離子電導顯微鏡(SICM)與原子力顯微鏡(AFM)和倒置光學顯微鏡(IOM)融...
與X射線用氮化硅窗口類似,透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小,適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規格...
Element 能量色散譜 (EDS) 系統為一款緊湊裝置,分析能力十分強大,可極大限度提升性能和靈活性,同時提供簡化操作以確保快速獲得結果且易于使用。它專注于...
原位納米壓痕儀 SEM/AFM/LM NanoFlip產品既可以工作在真空環境下進行各種原位力學測試;也可以直接在大氣環境下測試。本產品可進行硬度和楊氏模量測試...
FT-NMT04納米力學性能測試系統是一種多功能的原位掃描電鏡/光纖納米壓頭,能夠準確量化材料在微觀和納米尺度上的力學行為。
自動晶圓探針式輪廓儀/臺階儀P17。該系統支持對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力2D和3D測量,掃描可達200mm無需圖像拼接。結合UltraLite®...
InSEM HT高溫原位納米壓痕儀(高溫)通過在真空環境中單加熱jian端和樣品來測量高溫下的硬度、模量和硬度。INSEM®HT與掃描電子顯微鏡(SE...
Filmetrics R50 是KLA電阻測試家族的最新產品。R50方阻測試儀是KLA超45年電阻測量技術地位之作。電阻測量和監控對于任何使用導電薄膜的行業都至...
P-170是cassette-to-cassette探針式輪廓儀,將P-17臺式系統的測量性能和經過生產驗證的HRP®-260的機械傳送臂相結合。 這...
Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術的經濟三維光學輪廓儀,其可以用于多種用途的高精度表面測量。我司有此機器...
TNI LF-2000原位自動納米操作系統是目前市面上基于SEM電鏡下使用的高自動化程度的納米操作系統,也是一種能夠在SEM電鏡下提供可重復定位、低漂移、閉環運...
P-7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀保持了P-17技術的測量性能,并作為臺式探針輪廓儀平臺提供了好的性價比。 P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行2D和3D...
iNano高精度臺式納米壓痕儀是一種緊湊,用戶友好的納米機械測量系統,設計用于硬涂層,薄膜和少量材料。該系統旨在進行準確,可重復的納米級機械測試,包括壓痕,硬度...
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