摘要

因?yàn)殇X能與許多材料形成合金，因此被用于許多不同的行業(yè)，如建筑、交通運(yùn)輸和食品。多功能性和輕質(zhì)性使得鋁及其合金特別適用于重視輕量化的行業(yè)，如汽車和航空航天。  

然而制造鋁鑄件的過程十分困難。若想要讓最終的材料具備所需的性能，則必須注意控制熔體中的元素。有效的熔體控制方法是使用直讀光譜儀（OES）進(jìn)行分析。然而，并非所有的直讀光譜儀都具有相同的性能，必須格外注意鋁，因?yàn)槟承┓治鰞x可能檢測不出一些必須被控制在極低限值的元素。  

通常需要專業(yè)儀器才能檢測的元素，如磷和銻，可以通過日立OE720和OE750在低檢出限下對其進(jìn)行檢測。

日立直讀光譜儀的低檢出限對于鋁熔煉控制非常重要

OE720 和 OE750 直讀光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)提供了更高級別的光學(xué)分辨率，CMOS檢測器技術(shù)可確保在極低檢出限下檢測多種元素。這意味著，可以在近共晶和過共晶鋁硅合金中檢測出含量低至20ppm的磷，并且可以控制銻、鉍、鋰、鍶和鈉的含量，以確保最佳的結(jié)構(gòu)改進(jìn)。

這一高性能功能使用戶能夠驗(yàn)證鋁熔體中的雜質(zhì)元素磷、鈣、鉍和銻是否符合120ppm的最大總量。