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2025年3月11-13日，慕尼黑上海光博會在上海新國際博覽中心圓滿收官。本屆展會為業界呈現了一場高層次的科技盛宴。同時，本屆展會從展示范圍的廣泛度、光電產品的豐富度、趨勢傳遞的新穎度、交流合作的深入
慕尼黑上海光博會將于2025年3月11-13日在上海新國際博覽中心盛大召開。2025年正值慕尼黑上海光博會20周年，作為亞洲激光、光學、光電行業的年度盛會，本屆展會以“躬耕不輟，智啟新程”為主題，超過
華中科技大學聯合武漢頤光科技科技有限公司開發的“高精度寬光譜穆勒矩陣橢偏測量關鍵技術與納米測量應用”項目榮獲湖北省技術發明一等獎。此獎項由省人民政府設立，經省科學技術獎勵評審委員會評審、省科學技術獎勵
國產膜厚儀的維護不僅僅是對其表面進行清潔，更重要的是定期校準、檢查和保證設備在適宜的工作環境中運行。以下是膜厚儀維護的幾個關鍵方法：1.清潔維護儀器測量精度與儀器表面的清潔程度息息相關。任何附著在傳感
橢圓偏光儀作為精密光學測量設備，廣泛應用于半導體制造、光學薄膜、材料科學以及納米技術等領域。其主要功能是通過測量反射光或透射光的偏振狀態，來推算樣品的厚度、折射率以及光學常數等參數。由于橢圓偏光儀屬于
反射膜厚儀是一種利用光譜反射原理測量薄膜厚度和折射率的精密儀器，廣泛應用于半導體制造、光學鍍膜、平板顯示、太陽能電池等領域。特點：非破壞性測量無需接觸或損傷樣品，可對成品、半成品進行多次復測，避免樣品
穆勒矩陣光譜橢偏儀基于更普適的穆勒-斯托克斯形式主義。它通過系統性地改變入射光的偏振態（由起偏器和可調偏振態發生器實現），并精確測量所有四個斯托克斯參量構成的反射或透射光偏振態（由檢偏器和偏振態分析器
在線膜厚儀廣泛應用于多個領域，如半導體制造、光學涂層、電池制造、涂料、塑料和金屬薄膜等。每個領域的薄膜種類和厚度要求不同，因此對膜厚儀的精度、穩定性、適用范圍等要求也各不相同。不同種類的薄膜對膜厚儀的
光譜橢偏儀是一種高精度的光學測量儀器，主要用于分析材料的光學性質(如折射率、消光系數)、薄膜厚度(從納米到微米級)以及表面/界面的微觀結構信息。其核心原理是利用光的偏振狀態在材料表面反射或透射后的變化
膜厚測試儀主要用于測量薄膜或涂層材料的厚度。根據工作原理的不同，可以分為幾種類型，常見的有電渦流法、磁性法、X射線熒光法等。這些測試方法依賴于不同的物理原理來進行膜層厚度的測量。電渦流法通常用于非鐵金
教學橢偏儀作為一種重要的光學測量工具，廣泛應用于研究、材料分析以及工業測試領域。在教學中，不僅能幫助學生直觀理解光學原理，還能加深學生對光學薄膜、表面特性等物理現象的認識。針對教學需求設計的橢偏儀，通
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