雙光子灰度光刻技術（2GL）能夠以最高的精度對自由曲面微光學、微透鏡陣列或衍射微光學進行微納加工。這些打印在晶圓上的2.5D微納結構可作為母版，通過納米壓印光刻技術（NIL）應用于工業復制中。
Quantum X litho系統及其獨_有的突破性專_利2GL®技術將灰度光刻和雙光子聚合（2PP）的優勢相結合，以實現幾乎任意2.5D拓撲圖設計并具有光學質量表面和亞微米形狀精度特點。此外，Quantum X litho系統可以處理不同類型的基底，如玻璃載玻片或最大6英寸的硅晶片。該微納加工系統專為快速成型，小批量生產和在復制工藝中高效制造母版而設計。
NIL的基本流程包括三個步驟：首先是制作母版印章，用來在復制過程中制作相同復制品結構。接下來，從母版上模制一個軟模，顯示母版的精確負面特征。最終實現的納米壓印模板可以復制和原始結構一模一樣的副本。
特殊技術例如步進重復納米壓印工藝(StepandrepeatNIL）可以通過復制一個單模具母版到一個完_全填充8英寸母版上來幫助擴展該過程。該8英寸的母版可以在后續過程中實現高效大批量的復制過程。
Quantum X litho系統可完_美地匹配納米壓印光刻技術工藝鏈，并以最高的精度制作具備2.5D拓撲圖母版，如微透鏡陣列以及衍射和折射微光學。
【公司定位】納糯三維Nanoscribe作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅和創新者，從科研實驗室到工業生產現場，Nanoscribe提供全方_位高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【公司資質】Nanoscribe的2GL®技術受中國國家專_利保護（專_利號：CN110573291B）A2PL技術受中國國家專_利保護（CN109997081B）
【主營業務】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進封裝、光互聯納米制造
【應用領域】微光學、微機械、生物醫學工程、光子學技術
【產品優勢】Nanoscribe公司擁有世界領_先的雙光子無掩模光刻3D打印技術，全新QuantumX系列具有專_利雙光子灰度光刻(2GL®)，可實現光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，A2PL®技術支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預結構化基底上的定位標記，并以納米級對準精度在指定位置直接打印自由曲面光學元件，確保打印結構與光學軸嚴格對齊。
【產品評價】Quantum X litho系統代表了新一代對準3D打印技術的發展方向，可實現光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，并具備自動對準能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應用領域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學，加州理工學院，牛津大學，斯圖加特大學，麻省理工學院等
【技術領域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術在各項關鍵性突破研究中被提到，出現在2,100多份經同行評審的期刊出版物中
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